高速高質(zhì)
采用TCS為硅源可實現(xiàn)高達60um/h的高質(zhì)量快速外延。
均勻高產(chǎn)
可以產(chǎn)出摻雜均勻性小于5%,厚度均勻性小于2%,DIE良率大于95%的優(yōu)質(zhì)外延片產(chǎn)品。
穩(wěn)定行高
水平式設(shè)備相比于垂直式設(shè)備造價更低,同時兼?zhèn)錃怏w流量輸入穩(wěn)定、PM性能優(yōu)良等特點。
| 型號 | EPI-MF-8 |
| 產(chǎn)品規(guī)格 | 兼容6-8英寸碳化硅等襯底氣相沉積 |
| 具備工藝 | 具備 N 型和 P 型摻雜工藝,摻雜源可選擇性配置 |
| 控溫范圍 | ≤1700℃ |
| 控溫精度 | ±0.5℃ |
| 高溫傳片溫度 | 900℃ |
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證券代碼
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